LOCA模擬逐次法における前照射条件が絶縁材料の劣化に及ぼす影響

岡田 漱平; 日馬 康雄; 八木 敏明; 伊藤 政幸; 川上 和市郎; 田村 直幸

EIM-85-164, p.117 - 126, 1985/00

これまで行った種々のLOCA模擬同時法の実験から、蒸気中に空気を含む場合と含まれない場合とで絶縁材料の劣化の様態や線量率効果の現れ方が異なるということが明らかになった。これは材料の酸化状態の差異によるところが大きい。そこで、種々のLOCA条件(飽和水蒸気下照射と空気含有蒸気下照射のそれぞれについて短期間暴露と長期間暴露)における材料の酸化状態を逐次法によって出来るだけ忠実に模擬するにはどのようにしたら良いかを検討するため、蒸気暴露に先立つ照射(前照射)の条件を種々変えて実験を行なった。本報では、これまで高線量率室温空気中で前照射した場合の逐次法の結果を整理し、酸化条件下前照射(低線量率室温空気中、70C空気中、酸素加圧下の3通り)による逐次法の結果と合せて、種々の同時暴露環境でのハイパロン、EPRの機械的及び電気的特性の劣化と比較した。